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功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），GM使用雙端面機械密封，在通冷卻水的情況下，可24小時連續(xù)使用，GM也可以通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途，是實驗室中試生產(chǎn)的好選擇。
專為實驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機器型號升級過程中的風險降到更低。
GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
GMD2000/4為研磨分散機的技術(shù)參數(shù)：功率4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 50 升/小時（水），重量55KG, 尺寸 (長寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)。
GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設備。
上海思峻機械設備有限公司另外一項獨特的創(chuàng)新，就是GMC2000系列陶瓷膠體磨,它的設計使其功能在原有的GMC2000系列膠體磨的基礎上又進了一步。由于這項GMC2000系列陶瓷膠體磨能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。
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